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系统应用:RPD Eth/PWCVD 腔体尺寸:Φ600*380mm 样品台尺寸:100-400mm 样品台升降:0-200mm 真空系统:分子泵/干泵(国产/进口) 空压精度:±0.01Torr 软件:半自动与全自动软件控制
热蒸发GT200-S2
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
热蒸发GT500-S4-16
热蒸发GT600-S4-12
热蒸发GT700-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
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