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热蒸发GT300-S4-6
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：300*300*540mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-6组蒸发源
基片尺寸： ≤100×100mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT400-S4-8
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：400*400*650mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-8组蒸发源
基片尺寸： ≤135×135mm (加热）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT450-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：450*450*600mm
真空系统：低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-12组蒸发源
基片尺寸： ≤156×156mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：400*400*500mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤3寸，2-4个（国产/进口）
基片尺寸：≤ 6寸 (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 500*500*500mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤4寸，2-4个（国产/进口）
基片尺寸：≤8寸 (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT600-Y2
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 600*600*550mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤6寸，2-3个（国产/进口）
基片尺寸：210*210mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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高压电子束蒸发GT400-E1
膜厚参数：稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 400*400*630mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
电子枪：进口5-12KW电子枪4-6穴坩埚
基片尺寸：4-6英寸可定制
软件：半自动与全自动软件控制
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电子束热蒸发集成 GT500-E1-S6
膜厚参数：稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 500*500*600mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：2-6组蒸发源
电子枪：国产5-12KW电子枪4-6穴坩埚
基片尺寸：4-8英寸可定制
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT400-GT800集成手套箱
H2O＜1PPM；O2＜1PPM
泄露率：＜0.001vol%h
工作气体：氮气、氩气、氦气
箱体压力：自动压力控制，脚踏开关辅助手动控制
再生气体：N2/Ar/He+ H2混合气 (H2 浓度：5-10 %)
软件：由西门子的PLC和7"彩色触摸屏组成，自动再生程序
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热蒸发GT450-S4-10
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：450*450*600mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-10组蒸发源
基片尺寸：≤156×156mm (水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT600-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：600*600*660mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-12组蒸发源
基片尺寸： ≤210×210mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT700-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：700*700*800mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源/束源：4-12任意组合蒸发源
基片尺寸： ≤300×300mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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