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热蒸发GT300-S4-6
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:300*300*540mm
真空系统:分子泵、低温泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:4-6组蒸发源
基片尺寸: ≤100×100mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT400-S4-8
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:400*400*650mm
真空系统:分子泵、低温泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:4-8组蒸发源
基片尺寸: ≤135×135mm (加热)
软件:半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT450-S4-12
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:450*450*600mm
真空系统:低温泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:4-12组蒸发源
基片尺寸: ≤156×156mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:400*400*500mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤3寸,2-4个(国产/进口)
基片尺寸:≤ 6寸 (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 500*500*500mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤4寸,2-4个(国产/进口)
基片尺寸:≤8寸 (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT600-Y2
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 600*600*550mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤6寸,2-3个(国产/进口)
基片尺寸:210*210mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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高压电子束蒸发GT400-E1
膜厚参数:稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 400*400*630mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
电子枪:进口5-12KW电子枪4-6穴坩埚
基片尺寸:4-6英寸可定制
软件:半自动与全自动软件控制
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电子束热蒸发集成 GT500-E1-S6
膜厚参数:稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 500*500*600mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:2-6组蒸发源
电子枪:国产5-12KW电子枪4-6穴坩埚
基片尺寸:4-8英寸可定制
软件:半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT400-GT800集成手套箱
H2O<1PPM;O2<1PPM
泄露率:<0.001vol%h
工作气体:氮气、氩气、氦气
箱体压力:自动压力控制,脚踏开关辅助手动控制
再生气体:N2/Ar/He+ H2混合气 (H2 浓度:5-10 %)
软件:由西门子的PLC和7"彩色触摸屏组成,自动再生程序
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热蒸发GT450-S4-10
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:450*450*600mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:4-10组蒸发源
基片尺寸:≤156×156mm (水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT600-S4-12
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:600*600*660mm
真空系统:分子泵、低温泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源:4-12组蒸发源
基片尺寸: ≤210×210mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT700-S4-12
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:700*700*800mm
真空系统:分子泵、低温泵(国产/进口)
极限真空:3*10 -5Pa
蒸发源/束源:4-12任意组合蒸发源
基片尺寸: ≤300×300mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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