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定制化镀膜设备
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热蒸发GT300-S4-6
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：300*300*540mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-6组蒸发源
基片尺寸： ≤100×100mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT400-S4-8
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：400*400*650mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-8组蒸发源
基片尺寸： ≤135×135mm (加热）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT450-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：450*450*600mm
真空系统：低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-12组蒸发源
基片尺寸： ≤156×156mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT450-S4-10
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：450*450*600mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-10组蒸发源
基片尺寸：≤156×156mm (水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT600-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：600*600*660mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源：4-12组蒸发源
基片尺寸： ≤210×210mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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热蒸发GT700-S4-12
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：700*700*800mm
真空系统：分子泵、低温泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
蒸发源/束源：4-12任意组合蒸发源
基片尺寸： ≤300×300mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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