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膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸:400*400*500mm 真空系统:分子泵(国产/进口) 极限真空:5*10 -5Pa 真空靶:≤3寸,2-4个(国产/进口) 基片尺寸:≤ 6寸 (加热/水冷) 软件:半自动与全自动软件控制
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
磁控溅射镀膜机GT600-Y2
高压电子束蒸发GT400-E1
电子束热蒸发集成 GT500-E1-S6
热蒸发GT400-GT800集成手套箱
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