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定制化镀膜设备
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磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸:400*400*500mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤3寸,2-4个(国产/进口)
基片尺寸:≤ 6寸 (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 500*500*500mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤4寸,2-4个(国产/进口)
基片尺寸:≤8寸 (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT600-Y2
膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸: 600*600*550mm
真空系统:分子泵(国产/进口)
极限真空:5*10 -5Pa
真空靶:≤6寸,2-3个(国产/进口)
基片尺寸:210*210mm (加热/水冷)
软件:半自动与全自动软件控制
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