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定制化镀膜设备
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磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：400*400*500mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤3寸，2-4个（国产/进口）
基片尺寸：≤ 6寸 (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 500*500*500mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤4寸，2-4个（国产/进口）
基片尺寸：≤8寸 (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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磁控溅射镀膜机GT600-Y2
膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸： 600*600*550mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：5*10 -5Pa
真空靶：≤6寸，2-3个（国产/进口）
基片尺寸：210*210mm (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制
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