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适用材料:CsBr,PbBr2,PbI2等 膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸:600*600*660mm 真空系统:低温泵(国产/进口)+干泵 极限真空:3*10 -5Pa 蒸发源:4组低温束源5-20CC(600℃,800℃),4组舟源 电源:低功率进口电源,精度0.1A 基片尺寸:≤210×210mm(加热/水冷) 软件:半自动与全自动软件控制,带有一键自动镀膜工艺
热蒸发GT200-S2
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
热蒸发GT500-S4-16
热蒸发GT600-S4-12
热蒸发GT700-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
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