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膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95% 蒸发腔体尺寸:600*600*660mm 磁控腔体尺寸:600*600*550mm 真空系统:分子泵(国产/进口) 热发腔体极限真空:3*10 -5Pa 磁控腔体极限真空:5*10 -5Pa 蒸发源:2-16组蒸发源(束源、舟源) 真空靶:3-6寸,2-3个(国产/进口) 基片尺寸:可定制,可选择加热或水冷功能 软件:半自动与全自动软件控制,带有一键自动镀膜工艺
热蒸发GT200-S2
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
热蒸发GT500-S4-16
热蒸发GT600-S4-12
热蒸发GT700-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
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