磁控溅射+进样腔GT400-Y2-4 价格：元

膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95%
腔体尺寸：400*400*500mm
真空系统：分子泵（国产/进口）
极限真空：3*10 -5Pa
真空靶：≤3寸，2-4个（国产/进口）
基片尺寸： ≤6寸 (加热/水冷）
软件：半自动与全自动软件控制

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