Product
膜厚参数：稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸： 400*400*630mm 真空系统：分子泵（国产/进口） 极限真空：3*10 -5Pa 电子枪：进口5-12KW电子枪4-6穴坩埚 基片尺寸：4-6英寸可定制 软件：半自动与全自动软件控制
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
磁控溅射镀膜机GT600-Y2
电子束热蒸发集成 GT500-E1-S6
热蒸发GT400-GT800集成手套箱
首页
电话
留言
回到顶部