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膜厚参数:稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸: 500*500*600mm 真空系统:分子泵(国产/进口) 极限真空:3*10 -5Pa 蒸发源:2-6组蒸发源 电子枪:国产5-12KW电子枪4-6穴坩埚 基片尺寸:4-8英寸可定制 软件:半自动与全自动软件控制
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
磁控溅射镀膜机GT600-Y2
高压电子束蒸发GT400-E1
热蒸发GT400-GT800集成手套箱
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