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膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸：240*240*450mm 真空系统：分子泵 极限真空：3*10 -5Pa 蒸发源：2组蒸发源 基片尺寸： ≤60×60mm (加热/水冷） 软件：半自动与全自动软件控制
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
热蒸发GT500-S4-16
热蒸发GT600-S4-12
热蒸发GT700-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
磁控溅射镀膜机GT500-Y2-4
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