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膜厚参数：膜厚均匀性 ≥95% 腔体尺寸：450*450*600mm 真空系统：分子泵（国产/进口） 极限真空：3*10 -5Pa 蒸发源：4-10组蒸发源 基片尺寸：≤156×156mm (水冷） 软件：半自动与全自动软件控制
热蒸发GT300-S4-6
热蒸发GT400-S4-8
热蒸发GT450-S4-12
磁控溅射镀膜机GT400-Y2-4
磁控溅射镀膜机GT500-Y3-4
磁控溅射镀膜机GT600-Y2
高压电子束蒸发GT400-E1
电子束热蒸发集成 GT500-E1-S6
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