2026年2月1日，经过两个半月的加班加点，苏州光拓自主研发的多源多腔集成式高通量PVD镀膜设备顺利出货。
该设备区别于目前主流的单工艺设备，其在一套真空镀膜装备中集成热蒸发、磁控溅射、电子束蒸发等两种或两种以上类型PVD工艺。
目的是解决科研单位小量多批次的快速打样，或者工业类客户对镀膜效率以及良品率越来越高的要求。
产品主要特点
卡夹式基片架可放≥15层基片；
灵活配置束源+舟源，最大可搭载16组蒸发源；
本网站转载的内容会注明来源，版权归原出处所有（无法查证版权的或未注明出处的均来源于网络搜集）。转载内容（视频、文章、广告等）只以信息传播为目的，仅供参考，不代表本网站认同其观点和立场。内容的真实性、准确性和合法性由原作者负责。如涉及侵权，请联系删除，此转载不作为商业用途。